耐酸鹼化學泵浦/幫浦產業應用：半導體產業

當今我們能夠每天享受著許多科技帶來的便利生活，大多都要拜半導體所賜。半導體元件可說是現代科技應用的大腦，除了大家熟悉的手機、電腦等，近年來迅速成長的AI人工智慧、物聯網、5G等，也都是需要由半導體材料作為核心，製作積體電路而成。

半導體是什麼？

半導體是一種具有特殊物理性質的材料，常溫下導電能力介於導體和絕緣體之間，可藉由外部施加電壓來改變其導電能力。半導體在不施加外部電壓的情況下，是尚未導電的；若對材料施加電壓，原本不導電的材料將變成導電材料，使電流得以通過。

高純度無汙染要求

在我們的生活中如此舉足輕重、密不可分的半導體產業，製程中包含許多精密的積體電路和微機電，且為了避免產品的電性受到影響，其製程環境對潔淨度 (Cleanliness) 具有嚴苛的要求。因此輸送流體的過程需特別注意，確保生產製造環境維持在低汙染水平，才不會影響到產品的良率。如果說半導體是先進科技發展的核心，那麼泵浦便可稱為半導體製造的核心了。

半導體製程

半導體晶圓製程中，有些步驟上須仰賴可靠的化工泵浦，才能達到高品質的生產要求，以下簡單介紹晶圓與晶片的製造過程。

晶圓製程：

切片
晶棒 → 晶圓 → 研磨 → 洗淨 → 浸蝕 → 拋光 → 洗淨 → 矽晶圓。

晶片製程：

矽晶圓 → 薄膜沉積 → 塗上感光劑 → 微影成像 → 顯影 → 蝕刻 → 去除光阻

無軸封磁力泵浦在半導體製程中的應用

晶圓清洗：

晶圓之所以要清洗，是為了將表面的塵粒、化學汙染物、金屬殘留物等雜質洗掉，才能確保半導體元件的電性參數及特性，達成可靠的品質。
而清潔過程中使用的鹽酸、硫酸和過氧化氫等化學品，除了必須保持高純度，且這些酸鹼流體具腐蝕性，在輸送時需注意防止洩漏，避免造成危險。

顯影、蝕刻：

晶片的濕式製程中，如上述步驟所示，包含顯影、蝕刻等，須使用顯影劑及化學溶液，這些化學品的潔淨度須受嚴格管控，亦須注意輸送時的腐蝕與洩漏問題。

無塵室

由於現今的晶圓已擁有奈米等級的製造技術，若有塵粒或汙染物落在晶圓上，都有可能毀損到整個晶圓線路，因此為提升產品品質與良率，需要嚴格阻絕微塵粒子進入製程環境。晶圓廠的無塵室設備中，無汙染處理和可靠性是整體的關鍵，針對潔淨度的要求，某些類型的無塵室應用適合採用無軸封磁力泵浦，加上泵浦的材料最好為PTFE、ETFE，可防止化學品及超純水從泵浦中洩漏出來，進而影響到製程。

廢水回收、排放系統：

在半導體蓬勃發展的同時，元件製造過程中，為了能兼顧操作人員的安全及實現環境永續，化學品的排放與回收利用也成為受法律規範的一環。
一般半導體製程中使用的化學品到最後變成廢液，像是有機、無機、重金屬及研磨廢水等，都需經過混合與分離處理後，才能被回收再利用。建置一個完善的回收排放系統時，內部使用的泵浦也必須嚴格把關，如此一來不僅可有效防止危險藥液洩漏造成的汙染問題，亦可降低運作成本，達到最理想的廢液回收及排放處理。

PTCXPUMP無軸封磁力泵浦可安心應用於：

1. 化學品供應設備
2. 內部製程供應系統
3. 廢液處理設備

PTCXPUMP無軸封磁力泵於半導體產業應用中，提供您解決輸送流體的最佳方案。無軸封的設計，與傳統機械軸封泵浦不同，能有效避免洩漏，加上本體及多項部件材質使用GFR-PP及CFR-ETFE，具優異的耐腐蝕能力，適合輸送酸鹼藥液等高腐蝕性或易燃、易爆的高危險性流體，在半導體產業中，可應用於各類設備系統中。

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